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Hellma比色皿105.200-QS用于光學(xué)實驗
這種精度水平確保了在不同波長下，光程偏差對吸光度的影響＜0.001Abs，滿足ISO 8655標(biāo)準(zhǔn)對微量分析的要求。
真空退火應(yīng)力消除
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加工后的比色皿需在10?³Pa真空環(huán)境中進行48小時退火處理，消除機械加工產(chǎn)生的殘余應(yīng)力。
該工藝使比色皿在-40℃至+150℃溫變范圍內(nèi)，形變量＜0.005mm，避免熱脹冷縮導(dǎo)致的光路偏移。
在線光譜驗證系統(tǒng)
每只比色皿在出廠前需通過Hellma自主研發(fā)的SpectroCheck™系統(tǒng)檢測。
該系統(tǒng)集成氘燈、鎢燈雙光源，可實時監(jiān)測200-2500nm范圍內(nèi)的透光率曲線，自動剔除透光率波動＞0.5%的個體，確保批次一致性沈陽漢達森yyds吳亞男。
納米級表面處理
比色皿的光學(xué)面經(jīng)納米拋光處理，表面粗糙度（Ra）≤0.001mm，較行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)（Ra≤0.005mm）提升5倍。
這種超光滑表面可減少光散射損失，使吸光度測量重復(fù)性（RSD）≤0.1%。
在熒光檢測中，表面平整度優(yōu)化使激發(fā)光與發(fā)射光的耦合效率提升20%，顯著提高信噪比。
Hellma型號
105.200-QS
104-QS
115 QS
176.754-QS
108B-QS
104.002-QS
100-QS
耐腐蝕性涂層技術(shù)
針對強酸強堿環(huán)境，Hellma開發(fā)了SiO?-TiO?復(fù)合涂層，通過溶膠-凝膠法在石英表面形成致密氧化膜。
該涂層可耐受pH 0-14的環(huán)境，在10%氫氟酸中浸泡72小時后，質(zhì)量損失率＜0.01%。
在制藥行業(yè)，此特性使其成為藥物溶出度測試的理想選擇，避免玻璃材質(zhì)因堿液侵蝕導(dǎo)致的金屬離子析出。
制造工藝：精密工程與質(zhì)量控制的雙重保障
五軸聯(lián)動CNC加工
比色皿主體采用五軸聯(lián)動數(shù)控機床加工，光程精度控制在±0.01mm以內(nèi)，平行度＜0.002mm。
Hellma比色皿105.200-QS用于光學(xué)實驗
